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專業(yè)學位論文提綱

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專業(yè)學位論文提綱

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專業(yè)學位論文提綱

  市場營銷專業(yè)論文提綱范文【1】
 

  一、論文題目

  淺析創(chuàng)新營銷之博客營銷

  二、論題觀點來源:

  隨著網(wǎng)絡的發(fā)達,更多的新事物源源不斷地涌現(xiàn)出來。網(wǎng)絡和電子商務的出現(xiàn)徹底改變了原有的市場營銷理論和實務存在的基礎;A變了,環(huán)境變了,市場變了,隨之而來的營銷和管理模式也將發(fā)生根本的改變。透過寫博客的形式,介紹銷售人自己和銷售產(chǎn)品,達到交商友和產(chǎn)品銷售的人也逐日增多。由此產(chǎn)生了新的創(chuàng)新營銷--博客營銷。

  三、基本觀點:

  1、什么是博客營銷,博客營銷不等于營銷博客

  2、博客營銷的現(xiàn)狀及發(fā)展

  3、博客營銷的基本特征

  4、理解博客營銷帶給企業(yè)的機遇與挑戰(zhàn)

  5、博客營銷對網(wǎng)絡營銷的挑戰(zhàn)及對策(存在的不足)

  四、論文結構:

  (一)引言

  介紹博客營銷的現(xiàn)狀、特征、發(fā)展前景并提出問題。

  對博客營銷進行淺析,解決問題。

  1、什么是博客營銷,博客營銷不等同于營銷博客

  (1) 什么是博客營銷

  (2) 理解博客營銷不等同于營銷博客

  2、博客營銷的現(xiàn)狀及發(fā)展

  (1) 博客營銷的現(xiàn)狀

  (2) 博客營銷的發(fā)展前景

  3. 博客營銷的基本特征

  (1) 博客營銷以博客的個人和觀點為基礎

  (2) 企業(yè)的博客營銷思想有必要與企業(yè)網(wǎng)站內(nèi)部策略相結合

  (3) 合適的博客環(huán)境是博客營銷良性發(fā)展的必要條件

  (4) 博客營銷應正確處理個人觀點與企業(yè)立場的關系問題

  4、理解博客營銷帶給企業(yè)的機遇與挑戰(zhàn)

  5、博客營銷對網(wǎng)絡營銷的挑戰(zhàn)及對策(存在的不足)

  (三)結論:博客營銷是創(chuàng)新營銷下的新模式,它是網(wǎng)絡時代下創(chuàng)新營銷的產(chǎn)物。

  參考文獻:

  1.《把企業(yè)搬到博客上》 常青編 清華大學出版社 2007.02

  2.《博客營銷》 美.萊特 中國財經(jīng)出版社 2007.01

  3.《網(wǎng)絡營銷學》 美.艾露斯.庫佩 上海人民出版社

  物理博士學位論文提綱范文【2】

  摘要 5-7

  Abstract 7-8

  目錄 9-12

  第1章 緒論 12-26

  1.1 半導體激光器的研究進展 12-21

  1.1.1 高功率半導體激光器 12-15

  1.1.2 高效率半導體激光器 15

  1.1.3 高可靠性半導體激光器 15-16

  1.1.4 高光束質量半導體激光器 16-18

  1.1.5 窄線寬半導體激光器 18-21

  1.2 單縱模半導體激光器的研究進展 21-23

  1.2.1 國外單縱模半導體激光器的研究進展 22-23

  1.2.2 國內(nèi)單縱模半導體激光器的研究進展 23

  1.3 本文的研究目的與內(nèi)容 23-26

  第2章 高階光柵單縱模半導體激光器理論設計與分析 26-46

  2.1 半導體激光器的基本特性 26-29

  2.1.1 半導體的輻射躍遷 26-27

  2.1.2 半導體激光器的增益與閾值條件 27-29

  2.2 半導體激光器的輸出功率與轉換效率 29-31

  2.2.1 半導體激光器的輸出功率 29-30

  2.2.2 半導體激光器的轉化效率 30-31

  2.3 半導體激光器的縱模與光譜特性 31-32

  2.4 高階布拉格光柵波導的理論模型 32-38

  2.4.1 分布反饋(DFB)激光器和分布布拉格反射(DBR)激光器 32-33

  2.4.2 散射理論 33-36

  2.4.3 傳輸矩陣理論模型 36-38

  2.5 高階布拉格光柵波導的光學特性分析 38-42

  2.5.1 傳輸矩陣分析 38-40

  2.5.2 高階布拉格光柵的損耗光譜 40-42

  2.6 單縱模激光器的空間相干性分析 42-45

  2.6.1 部分相干光定理 42-43

  2.6.2 相干度理論計算方法 43-45

  2.7 本章小結 45-46

  第3章 高階光柵單縱模半導體激光器制備 46-68

  3.1 外延生長技術 46-47

  3.2 光刻技術 47-52

  3.3 刻蝕技術 52-61

  3.3.1 干法刻蝕 52-55

  3.3.2 SiO2和GaAs刻蝕工藝探索 55-59

  3.3.3 濕法腐蝕 59-61

  3.4 薄膜生長技術 61-65

  3.4.1 電絕緣膜生長技術 62

  3.4.2 金屬電極生長技術 62-64

  3.4.3 光學薄膜生長技術 64-65

  3.5 高階光柵半導體激光器的制備 65-66

  3.6 本章小結 66-68

  第4章 高階光柵分布布拉格反射半導體激光器 68-94

  4.1 高階光柵單縱模分布布拉格反射半導體激光器 68-81

  4.1.1 器件結構設計 68-76

  4.1.2 器件制備 76-77

  4.1.3 器件測量結果 77-81

  4.2 雙波長高階光柵分布布拉格發(fā)射激光器 81-86

  4.2.1 器件設計 81-83

  4.2.2 器件制備 83-84

  4.2.3 器件測量結果 84-86

  4.3 高階光柵耦合半導體激光器可靠性分析 86-92

  4.3.1 拉曼光譜分析技術原理 87-88

  4.3.2 測試結果與分析 88-92

  4.4 本章小結 92-94

  第5章 高階光柵單縱模分布反饋半導體激光器 94-100

  5.1 器件制備 94-96

  5.2 器件測量結果 96-99

  5.3 本章小結 99-100

  第6章 單縱模半導體激光器件空間相干特性的研究 100-116

  6.1 VCSEL單管器件空間相干性研究 100-107

  6.1.1 部分相干光理論 101-103

  6.1.2 測試結果 103-107

  6.2 VCSEL列陣器件的空間相干特性研究 107-114

  6.2.1 器件設計 107-110

  6.2.2 器件制備 110

  6.2.3 測試結果 110-114

  6.3 本章小結 114-116

  第7章 總結與展望 116-118

  參考文獻 118-132

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